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 ■ 研究概要・テーマ

研究概要
本プロジェクトは、文部科学省ナノテクノロジー・材料を中心とした融合新興分野研究開発「超高密度情報メモリの開発」の委託を受け、1大学4企業の産学連携体制で新しい光情報メモリを開発しようとするものです。

この産学連携体制は、科学技術振興機構戦略的創造研究推進事業(CREST)の中で培われ、その研究成果をさらに発展させることで、究極的には40Tbits/inch2、800Gbpsという夢の性能をもつ光情報メモリ実現のための要素技術開発とそのシステム化を推進するものです。

このために、磁性フォトニック結晶を用いた超高速薄膜光変調デバイス、ナノゲル構造を有するフォトポリマー材料、多値位相体積ホログラム記録技術の開発を集中研究方式で実施します。

研究テーマ
テーマ1: ナノ構造磁性フォトニック結晶を用いた薄膜光変調デバイスの開発  詳細
テーマ2: ナノゲル構造を有するハイレゾリューション・フォトポリマーの開発 詳細
テーマ3: 光フェーズロック方式による多値位相ホログラム記録技術の開発 詳細

プロジェクト概要図
超光情報メモリプロトタイプ
光フェーズロック方式による多値諧調ホログラム記録技術の開発 ナノ構造磁性フォトニック結晶を用いた薄膜光変調デバイスの開発 ナノゲル構造を有するハイレゾリューション・フォトポリマーの開発 産業展開の加速
 
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