吉田 絵里（よしだ えり）
研究テーマ（シーズ3）
光精密ラジカル重合を用いる高分子の設計と合成
| 研究の技術分野 | 電気・電子 金属・材料 化学・化工 ナノテクノロジー |
|---|---|
| 研究の段階・状況 | A3 基礎開発研究の段階 |
| キーワード | 光リビングラジカル重合 安定ニトロキシルラジカル 精密高分子合成 分子量制御 ブロック共重合体 |
| 提案者 | 吉田 絵里 応用化学・生命工学系 |
| 連絡先 | Tel :0532-44-6814 Fax :0532-48-5833 E-mail:eyoshida@chem.tut.ac.jp |
当研究室で開発した光精密ラジカル重合法を用いると、種々の機能性高分子材料を設計・合成することができます。例えば、末端官能基の定量的な導入や、分子量の制御された高分子を容易に合成することができます。特に、通常の合成法では困難な、ラジカル重合以外の方法で合成したポリマーとのブロック共重合体を得ることができます。このブロック共重合体は、機能性高分子界面活性剤として幅広く利用できます。
主要な研究設備等
GPC：分子量測定
基本となる特許・解説記事・研究論文等
Eri Yoshida "Controlled photoradical polymerization mediated by 2,2,6,6-tetramethylpiperidine-1-Oxyl", Polymers 4(2), pp.1125 (2012).
吉田絵里, 「安定ラジカルによるリビングラジカル重合法を利用した高分子設計」高分子加工, 47 (8), 354 (1998) など.
実施可能な共同研究の形態
共同研究の実施形態 :主に大学で実施
大学への研究員等の受入 :可能
企業への専門家等の派遣（不定期を含む）:可能